反應(yīng)腔模組
反應(yīng)腔模組是半導(dǎo)體設(shè)備的核心部分,其性能直接影響到半導(dǎo)體設(shè)備穩(wěn)定性和性能表現(xiàn)。
公司的反應(yīng)腔模組整體性能要求均通過(guò)國(guó)際主流客戶認(rèn)證,主要應(yīng)用PVD、CVD、ALD、ETCH、RTP等半導(dǎo)體設(shè)備。
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產(chǎn)品特點(diǎn)
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產(chǎn)品參數(shù)
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相關(guān)方案
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質(zhì)量管理
產(chǎn)品特點(diǎn)
高密封性
高密封性保證了設(shè)備真空環(huán)境的實(shí)現(xiàn)和保持,為晶圓制程反應(yīng)提供穩(wěn)定的支撐
高潔凈度
高潔凈的設(shè)備零部件是晶圓工藝制程得到良品率的基礎(chǔ)
制程設(shè)備的潔凈度直接決定了在制晶圓及后續(xù)芯片的良品率,甚至決定了整條生產(chǎn)線是否有合格品產(chǎn)出

高耐腐蝕
高耐腐蝕的設(shè)備零部件是芯片刻蝕制程設(shè)備的功能需求
零件的耐腐蝕性能決定了設(shè)備的功能性、可靠性、和設(shè)備在線停機(jī)維護(hù)的頻次高低
產(chǎn)品參數(shù)
組成 | 工藝零部件、結(jié)構(gòu)零部件、管路器件、標(biāo)準(zhǔn)件 |
漏率 | 1*10-9torr*l/s |
潔凈度 | 關(guān)鍵部件LPC液態(tài)粒子檢測(cè)、ICPMS金屬元素檢測(cè)、熒光檢測(cè) |
相關(guān)方案
質(zhì)量管理
富創(chuàng)質(zhì)量管理秉承"好的質(zhì)量是設(shè)計(jì)、制造出來(lái)的"為原則,關(guān)注客戶端到端的質(zhì)量服務(wù),從研發(fā)、設(shè)計(jì)、過(guò)程全生命周期質(zhì)量管理關(guān)注各環(huán)節(jié)中入口質(zhì)量、過(guò)程質(zhì)量、出口質(zhì)量,以保證整體質(zhì)量可控,最終構(gòu)建成以以預(yù)防為主的質(zhì)量文化,助力客戶產(chǎn)品更具競(jìng)爭(zhēng)力。
